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目前，超纯水生产工艺大多采用反渗透设备 edi超纯水设备 精处理混床，不需要回收化学品的再生，有效降低了运行成本。出水水质除水分子外几乎不含杂质，电阻率可达18mω·cm，edi超纯...
经过20多年的风风雨雨，我国终于完成了从“中国制造”到“中国智造”的伟大转变。这些变化和进步无疑值得肯定。但是，我们不能否认，在高端科技领域，与世界水平相比还有很长的距离...
莱特莱德超纯水设备中，水箱配备液位控制系统，水泵配备压力保护装置、在线水质检测和控制仪表，电气采用plc可编程控制器，真正实现无人值守。...
edi超纯水设备采用反渗透技术 edi 抛光混床系统制备超纯水。...
采用莱特莱德超纯水生产设备，可几乎完全去除水中的导电介质，水中的非离析胶体物质、气体和有机物被去除到很低的程度。超纯水生产设备脱盐的核心部件为反渗透膜组件、edi系统...
经过多年的实践，莱特莱德结合膜分离技术，采用反渗透、edi装置结合混床的模块化设计工艺制备超纯水，其水电阻率高达18 mω*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有环保、经济、发展潜...
硼是半导体生产过程中的一种p型杂质，过量会使n型硅反转，从而影响电子和空穴的浓度。因此，在超纯水行业中应充分考虑去除硼。...
现在的超纯水生产工艺大多采用反渗透设备 edi 抛光混床，无需再生药剂，有效降低了运行成本。汽车芯片用超纯水设备生产的水质电阻率可以达到18mω·cm，满足汽车芯片用水的需求。...
经过多年实践，莱特莱德结合采用反渗透、edi装置结合抛光混床的模块化设计工艺制备超纯水，其水电阻率高达18mω*cm(25℃)，符合芯片制造用水要求，具有环保、经济、发展潜力巨大等...
锂电池超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超净化处理和后处理方法，几乎完全去除水中的导电介质，并将水中的非游离胶体物质、气体和有机物去除到很低的程度。...
半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水，随着半导体工业的不断发展，对清洗水的电导性、离子含量、toc、do、particles要求也越来越严格。...
电子晶圆行业超纯水设备目前正从晶圆的基础水开始，履行保护晶圆纯度的职责，持续稳定地制备满足晶圆生产需要的超纯水，产水电导率可达18mω·cm(25℃)。...
超纯水设备作为芯片生产过程中的标准设备，通常采用反渗透水处理设备、电离子(edi)设备和抛光混合床制造超纯水，使其出水满足芯片生产用水的需求，成为芯片产业复兴的坚强后盾。...
莱特莱德单晶硅超纯水设备采用ro反渗透 edi或混床抛光技术，根据不同用户的需求，定制设计不同水质要求和不同水流量要求的超纯水设备，具有水质稳定、操作简便、运行成本低、绿色...
