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欢迎来到莱特莱德 • 专业ppt级电子级超纯水服务商超纯水设备可生产出芯片生产过程中的清洗用水超纯水,保证了芯片的良品率。...
超纯水设备结合膜分离技术,利用反渗透结合edi装置制备超纯水,出水电阻率可达18.2mω.cm(25℃),满足半导体生产用水的需求。...
超纯水设备采用双反渗透、edi、抛光混合床相结合的制水工艺,具有水利用率高、运行可靠、经济合理等特点。...
莱特莱德生产的edi超纯水设备,主要采用的是两级ro edi 精混床除盐水处理工艺,可以确保处理后的超纯水水质电阻率达到18.2mω.cm。...
莱特莱德生产的超纯水处理设备,水质电阻率达到了18 mω*cm(25℃),完全符合芯片清洗用水要求。...
莱特莱德超纯水设备能够连续稳定地制备高质量的超纯水,不会因树脂再生而停止运行。...
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