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欢迎来到莱特莱德 • 专业ppt级电子级超纯水服务商硼是半导体生产过程中的一种p型杂质,过量会使n型硅反转,从而影响电子和空穴的浓度。因此,在超纯水行业中应充分考虑去除硼。...
现在的超纯水生产工艺大多采用反渗透设备 edi 抛光混床,无需再生药剂,有效降低了运行成本。汽车芯片用超纯水设备生产的水质电阻率可以达到18mω·cm,满足汽车芯片用水的需求。...
经过多年实践,莱特莱德结合采用反渗透、edi装置结合抛光混床的模块化设计工艺制备超纯水,其水电阻率高达18mω*cm(25℃),符合芯片制造用水要求,具有环保、经济、发展潜力巨大等诸多优点...
锂电池超纯水设备采用预处理、反渗透技术、超净化处理和后处理方法,几乎完全去除水中的导电介质,并将水中的非游离胶体物质、气体和有机物去除到很低的程度。...
半导体行业在生产的时候需要大量的清洗水,随着半导体工业的不断发展,对清洗水的电导性、离子含量、toc、do、particles要求也越来越严格。...
超纯水设备作为芯片生产过程中的标准设备,通常采用反渗透水处理设备、电离子(edi)设备和抛光混合床制造超纯水,使其出水满足芯片生产用水的需求,成为芯片产业复兴的坚强后盾。...
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